- 如果您對該產(chǎn)品感興趣的話，可以
- 產(chǎn)品名稱：桌面型RTP快速升溫退火爐
- 產(chǎn)品型號：
- 產(chǎn)品展商：其它品牌
- 產(chǎn)品文檔：無相關(guān)文檔
簡單介紹
●Rapid Thermal Annealing/快速升溫退火爐
●高溫退火/高溫擴散(Annealing / Diffusion)
●金屬合金/砷化鎵合金(Metal Alloy, GaAs Contact Alloy)
●硼磷矽玻璃回熔(PSG/BPSG Reflow)
●氧化製程(Trench Oxidation)
●閘極介電製程(Gate Dielectric Formation)
●多晶矽退火(Poly–Si Annealing)
●鈦矽化合物/氮化物(Ti Silicide / Salicide / Nitride)
產(chǎn)品描述
設備名稱：快速退火爐
工作原理：快速退火爐是一種材料快速加熱到一定溫度并維持一定時間，然后再快速降溫。
用途：釋放應力；增加材料延展性和韌性；產(chǎn)生特殊顯微結(jié)構(gòu)；應用于半導體材料、器件、新材料等的快速熱處理（如快速退火、合金等工藝）
技術(shù)指標：
1. 樣品尺寸：6英寸及以下
2退火溫度： 100-1250℃可調(diào)，控溫精度1℃
3. 溫度均勻性：1000℃下，6英寸晶圓≤±1%
4.反應氣氛；真空、N2、O2、空氣